Die OST (Ostschweizer Fachhochschule) hat eine strategische Partnerschaft mit Samco an Land gezogen, einem internationalen Anbieter von Halbleiter-Prozessanlagen mit Hauptsitz in Japan. Das Institut für Mikrotechnik und Photonik (IMP) der OST erhalte dadurch Zugang zu modernster Technologie im Bereich der Waferbearbeitung, teilt die OST via Aussendung mit.
So ist gemäss den Infos kürzlich das Plasma-Ätzsystem RIE-10NR zusammen mit dem UV-Reiniger UV-2 von Samco im Reinraum des IMP am Standort Buchs installiert und in Betrieb genommen worden.
Hinter dem kryptischen Namen "RIE-10NR-Parallelplattenreaktor" verbirgt sich ein System, das die Mikrostrukturierung von Wafern unterschiedlichster Art ermöglicht. Zum Einsatz kommt dabei ein spezielles plasmagestütztes Ätzverfahren, das sogenannte "Reactive Ion Etching" (RIE), das feinste Strukturen auf den Prozessscheiben ermöglicht.
Der Reinraum der OST am Campus Buchs ist den Angaben nach nur zehn Autominuten von Samco-UCP entfernt und biete umfassenden Support für die neuen Anlagen. Er sei auf technisch hohem Niveau mit Geräten für die weitere Waferprozessierung im Zusammenhang mit dem Ätzprozess ausgestattet, insbesondere mit Anlagentechnik für die Fotolithografie und für die Beschichtung. Im Analytiklabor der OST könnten Schichtdicken gemessen und die Ätzergebnisse mit einem hochauflösenden Rasterelektronenmikroskop präzise beurteilt werden. Durch diese Kooperation erhalte das Institut IMP der OST am Campus Buchs zusätzliche Impulse für die industrienahe Forschung und Entwicklung auf dem Gebiet der für die Schweiz und für Europa wichtigen Mikrotechnik, heisst es.
